多功能光电流扫描成像系统

光电流扫描成像：通过2D位移台逐点扫描方式，对样品进行光电流强度分布成像。此功能仅需将系统标配的磁吸样品台替换为电学样品台，再配合相应的源表，锁相放大器，前置放大器等外置设备即可实现。此外，配合Waynelabs3 的电动化组件，可支持自定义更多功能，如本页的掩模版扫描成像功能

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产品概述

多功能光电流扫描成像系统

Waynelabs3 微区架构兼容各类样平台，与电学测量系统整可开展光电流扫描成像测试。光电流响应的测试流程为：激发光经斩波后（或直接通过外部TTL调制），再经分束镜物镜引入到样品上；通过源表外加偏压使样品上每一点产生光电流信号，将其接入锁相放大器采集信号；

光电流扫描成像：通过2D位移台逐点扫描方式，对样品进行光电流强度分布成像。此功能仅需将系统标配的磁吸样品台替换为电学样品台，再配合相应的源表，锁相放大器，前置放大器等外置设备即可实现。此外，配合Waynelabs3 的电动化组件，可支持自定义更多功能，如本页的掩模版扫描成像功能。

系统原理示意图

*此图仅作为原理示意，以实际为准

基本功能

· 单点激发测光电流响应及Mapping；

· 电动变功率及变偏振的光电流测量；

· 配备常温及低温、气氛电学样品台；（可选）

· 可增配激发光调制模块（激光投影/宽场激发/矢量光入射等）

多功能光电流扫描成像系统应用场景

主要用于表征光电材料及器件的光电流响应及强度分布

· 光电探测器的量子效率；

· 器件的电阻分布特征；

· 太阳能电池光生电流的分布特性；

· 器件光吸收及光生电荷的分布特性；

· 半导体结区/界面的电荷分布等。

典型数据图

多功能光电流扫描成像系统典型参数配置

测试光源：宽谱光：400 - 1100 nm（标配）；400 - 2000 nm（可选）激光：375 - 1064 nm （选配）

空间分辨率：＜ 1 mm

电动位移行程：50 mm × 50 mm × 40 mm

扫描精度：＜ 1 mm，步进最小 0.04 mm

偏振控制：电动（可选）

光路切换方式：电动，软件控制

物镜组： 5X，10X，20X，50X，100X可见光物镜；其它物镜可定制

照明光源：高显色LED面光源

信号采集： 16路插入式芯片及配套插座；16路单独可控接地盒；前置放大探头，锁相放大器

软件功能：移动视场，切换物镜，对焦，框选扫描区域均可用鼠标直接在图像显示窗口操作；电动功率调整；自动化光路模式切换；自动化Mapping；自动化偏振Mapping；实时处理与显示数据