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多功能光电流扫描成像系统

光电流扫描成像:通过2D位移台逐点扫描方式,对样品进行光电流强度分布成像。此功能仅需将系统标配的磁吸样品台替换为电学样品台,再配合相应的源表,锁相放大器,前置放大器等外置设备即可实现。此外,配合Waynelabs3 的电动化组件,可支持自定义更多功能,如本页的掩模版扫描成像功能
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产品概述
多功能光电流扫描成像系统
 
Waynelabs3 微区架构兼容各类样平台,与电学测量系统整可开展光电流扫描成像测试。光电流响应的测试流程为:激发光经斩波后(或直接通过外部TTL调制),再经分束镜物镜引入到样品上;通过源表外加偏压使样品上每一点产生光电流信号,将其接入锁相放大器采集信号;
光电流扫描成像:通过2D位移台逐点扫描方式,对样品进行光电流强度分布成像。此功能仅需将系统标配的磁吸样品台替换为电学样品台,再配合相应的源表,锁相放大器,前置放大器等外置设备即可实现。此外,配合Waynelabs3 的电动化组件,可支持自定义更多功能,如本页的掩模版扫描成像功能。
 
系统原理示意图
*此图仅作为原理示意,以实际为准
基本功能
 
· 单点激发测光电流响应及Mapping;
· 电动变功率及变偏振的光电流测量;
· 配备常温及低温、气氛电学样品台;(可选)
· 可增配激发光调制模块(激光投影/宽场激发/矢量光入射等)
 
多功能光电流扫描成像系统应用场景
主要用于表征光电材料及器件的光电流响应及强度分布
· 光电探测器的量子效率;
·  器件的电阻分布特征;
· 太阳能电池光生电流的分布特性;
· 器件光吸收及光生电荷的分布特性;
· 半导体结区/界面的电荷分布等。
 
典型数据图
多功能光电流扫描成像系统典型参数配置
 
测试光源:宽谱光:400 - 1100 nm(标配);400 - 2000 nm(可选) 激光:375 - 1064 nm (选配)
空间分辨率: < 1 mm
电动位移行程:50 mm × 50 mm × 40 mm
扫描精度: < 1 mm,步进最小 0.04 mm
偏振控制: 电动(可选)
光路切换方式:电动,软件控制
物镜组: 5X,10X,20X,50X,100X可见光物镜;其它物镜可定制
照明光源: 高显色LED面光源
信号采集: 16路插入式芯片及配套插座;16路单独可控接地盒;前置放大探头,锁相放大器
软件功能:移动视场,切换物镜,对焦,框选扫描区域均可用鼠标直接在图像显示窗口操作;电动功率调整;自动化光路模式切换;自动化Mapping;自动化偏振Mapping;实时处理与显示数据