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与单晶或多晶Ga2O3相比,非晶Ga2O3材料具有明显的成本优势。本研究开发出了一种具有超高性能和栅极可调光检测能力的非晶Ga2O3日盲场效应光电晶体管,并对其光电性能进行了全面调研。射频磁控溅射用于在经济的Si/SiO2衬底上沉积非晶GaOx薄膜。通过施加适当的背栅电压(VG),可以很好地控制场效应光电晶体管的光电性能和暗电流。制成的日盲型GaOx薄膜场效应光电晶体管具有出色的深紫外光光电探测特性,包括4.1×103 AW-1的超高光敏性,2.5×1013 Jones的高探测率,以及极高的外量子效率。在70 µW cm-2的254 nm的弱光照下,外量子效率为2×106%,光电导增益为1.6×107。还揭示了光检测特性取决于偏置电压和光强度。另外,成功地展示了GaOx光电晶体管作为感测像素的日盲成像功能。获得了目标的清晰图像,这是有关非晶GaOx 探测器日盲成像的第一次报道。这些结果,加上其易于制造和低成本,使得该日盲非晶GaOx薄膜场效应光电晶体管有望用于下一代光电成像应用。
由于可以广泛用于光学成像,空间光通信,导弹制导和定位导航等领域,作为现代光电设备中关键组件的光电探测器(PD)近年来已引起越来越多的研究兴趣。目前,商用光电探测器主要基于Si光电二极管,是因为它的低成本和与高度成熟的硅工艺带来的高度兼容性。在280 nm以下的波长下工作的深紫外光电探测器(深紫外光PD)尚未十分成熟,它们是近年来在火焰探测,导弹预警系统,机密空间通信,深紫外线成像机方面具有潜在应用的研究热点。能隙为4.7-4.9 eV的Ga2O3材料,由于其高辐射耐受性,高热稳定性和化学稳定性以及在深紫外区域的强吸收性,是未来有发展前景的深紫外光PD的候选项。
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