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精密对位技术在微型机械、超精密加工、半导体以及光学等领域具有重要的地位并有着十分广泛的应用前景。就像人看到帽子戴歪了并伸手调整一样，精密对位技术也需要检测与调整两个步骤。近些年，得益于超高分辨率摄像机等检测技术的发展与普及，我们已经可以以较低的价格获取到我们需要的偏差检测能力，完成了看的动作，而调的动作则需要交给本文的主角-高精度对位平台来解决。
对位平台最早是源自于德国，采用的方式是用pin针拨动有着磁力推杆的frame，让上方不动的玻璃得以和下方的框架结合，到了日本则被改为以电的三向UVW来命名的UVW平台，然后以此为蓝本，工程师再将其缩小，并大大地降低了高度，组合出了现在常看到的XXY形式的对位平台。原始的磁力推杆也进化到以线性导轨甚或交叉滚柱组装的单体模组，以及由三轴电机甚或四轴电机带动的高精度对位平台。
目前对位平台的应用，主要在高速、高精度需求的产业，例如半导体业的晶圆切割、封装检测、PCB制造业的曝光机、网印机、贴合机、压合机、PCB板裁切、丝印、手机制造业、LCD/LED面板制造业，光学检测等。
对位平台目前主流有如下三种结构：
基于成本和实现的双重考虑，XYR对位平台占据着极高的市场地位，也是本文的介绍对象。
工作原理：
结构介绍；以我司主流型号XYR300400为例，XYR对位平台由上台面、下底面及中间的四套模组构成，每套模组均采用交叉滚柱导轨和交叉滚子轴承导向，带驱动模组（3套）采用小导程滚珠丝杠驱动，标配步进电机，也可换装五相步进电机或伺服电机。
XYR300400结构示意图
XYR对位平台通常由上台面、下底面和中间的四个模组构成，从模组分布的结构上分为：对称结构和非对称结构，而对称结构，又可分为“十字形对称结构”和“四角形对称结构”等。非对称结构通常用在超薄型或者客户定制的需求中，而且通常中间不能设计通孔，所以在一些特定情况下使用。而对称结构在运动算法方面比较通用，而且对位平台中心位置可以设计通孔，一定程度上可以满足透射式和反射式的对位需求，故被广泛采用。对称结构中的四角形分布，其刚性和可扩展能力更强，所以我司的对位平台更多地采用四角对称平台。
算法简述：
影响到对位平台运动算法的因素主要有两个：一个是对位平台的整体结构（四角形对称结构、十字形对称结构、非对称结构），另一个是模组中X轴、Y轴、θz 轴的组合方式。
对位平台整理结构
我司对位平台一般采用四角对称结构、模组为侧面驱动、模组内部组成方式为X+Y+θz。
下一章，我们将采用由浅入深的方式讲解对位平台的算法，其他模式的对位平台亦可参考其算法思想。
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